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中国的晶圆工艺，比国外落后十年，靠着一个工艺，就可以追平，甚至赶超。

那这样不是挺好的吗？

好什么？

这个技术一旦流传出去，后果是什么？

4.86直接就变成100.86了！

世界的半导体工艺，直接就跳入到纳米时代了。

这个技术对弱者而言，只是给他们加装了一条腿，让残疾人可以站起来。但是对于强者来说，那就是加装了翅膀！直接飞向宇宙了！

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在这个时代，中国在半导体方面的力量，实在是太弱了。

半导体设备落后，芯片设计上基本空白，晶圆厂，有也基本上等于没有。

新世纪中国在半导体产业，虽然落后，但是追的速度还算可以。其中一个很大原因，就是整个世界，半导体产业的科技进步速度，实际上放缓了。

摩尔定律，某种程度上已经失效。世界在14n停留了三四年。这里的典型，就是intel在10n停留了接近5年时间。这种技术上的停顿，给后来者带来了机会。

在这个时代，如果公开了这个技术，带给这些落后国家的芯片产业，那可真是降维打击了。

如果没有这个技术，中国的半导体技术，还有芯片设计，在玩具，盗版游戏机的带动下，仍然可以缓慢发展。

虽然落后，但慢慢的，底蕴还是在增长。人才，技术，经验，也在慢慢积累。

正是这些一点一滴的积攒，才给后世的厚积薄发，提供了一个很好的平台。

在新世纪，为什么中国可以在半导体产业取得巨大的成功？

没有531，907，908，909等一系列工程，培养出来的大批人才，怎么可能？

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但在这个时代，中国并没有准备好接受这种先进武器。

第一，这个时代，没有晶圆代工产业。

这就意味着，没有独立的芯片设计公司。这个芯片厂，能发挥多大作用呢？

第二，没有市场。

现在所有的晶圆厂，都是为特殊需求定制。这个工厂，如果仅仅是为了LCD芯片而创建，产量可以自足，但根本没有发展空间。没有足够的利润牵引，先进的技术也会慢慢落后。

日本的几家光刻机厂是怎么衰落的，就是在光刻机领域，他们整整损失了一代的订单，然后就彻底失去了发展的机会。

在半导体下游产业没有发展起来的时候，这个技术宁可毁掉，也不能让它流传出去。

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“好吧，你说什么就是什么了！你说的真1微米指的是什么？”

“这里面涉及了一个关键CMP抛光技术。它是我们继续向下突破的关键。”

其实在整个90年代，制约芯片进程的关键，都不是光刻机。而是其它技术。

在接下来几年，晶圆工艺进步，其中最重要的就是CMP技术。

集成电路制造过程好比建房子，每搭建一层楼层都需要让楼层足够水平齐整，才能在其上方继续搭建另一层楼，否则楼面就会高低不平，影响整体可靠性。

使楼层整体平整的技术，在集成电路中制造中用的就是抛光技术。

CMP技术，是普通抛光技术的高端升级版本。

这个技术，它是从0.35微米步进到0.25微米的关键工艺。为了制造多层结构的3D高密度集成电路，必须使用CMP平坦化技术，代替传统的方法。

这个技术，真正进入视线，就是从92年6月开始。它的大规模普及，则是在94年以后。

成永兴对CMP技术抱以厚望。希望这个在更高制程上使用的关键技术，可以作为降维打